美国实验室小型光刻机

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美国实验室小型光刻机

光刻机美国 实验室小型光刻机
使用新型的172nm 的波长。不需要传统的光刻胶,对几乎任何的有机聚合物材料都可以光刻。不需要传统的涂胶、烘烤、曝光、显影、清洗等的流程和时间。高分辨率、高强度、高效率、低成本。在实验室就可以实现光刻,而无需到半导体工厂,使用大型和昂贵的刻蚀机。操作简单,几乎无需培训。
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光刻机美国实验室小型光刻机

172纳米 全新加工原理

传统1 72 nm光源的低输出功率阻碍了该波长在研究和生产中的广泛应用。 π2 -CYGNI克服了这一障碍,并揭示了1 72nm的真正能力-全新化学驱动方法,反应方式和加工技术。

紫外线不仅仅用于光刻和固化!

全新能量驱动方式

紫外线弧光灯可提供较高的平均功率。 准分子紫外线源提供高光子通量。 π2 -CYGNI提供高平均功率和高光子通量- 无需主动或外部冷却。

高功率和高光子通量的这种独特组合包装在便携的封装内,并引发了其他光源无法实现的大面积反应和过程。

全新技术灯具

每个π2 -CYGNI的是一个超薄(<4毫米)平面微腔放电灯。 与传统的弧光放电灯相比,广域发射提供了卓越的均匀性,同时消除了对复杂的聚光,准直和均化光学器件的需求。

紫外线无泄漏

在π2 -CYGNI之前,产生紫外线通常意味着产生有毒物质,低转换效率和高设备成本。 π2 -CYGNI通过提供一种环保且节能的解决方案打破了这些障碍。 π2

-CYGNI的制造和使用过程中不使用有毒材料,在生产过程中使用π- CYGNI可以减少化学材料和水的消耗。 有效的降低了使用成本,即成本仅是使用其他1 72 nm光源成本的一小部分。

光刻机美国实验室小型光刻机

输出强度   > 10 mW/cm2

强度均匀性   < 3%

峰值输出波长  172 nm

-3dB宽度(FWHM)    8.9 nm

发光面积   43 mm x 43 mm

预热时间(从0到95%)  < 2 s

直流输入电压  12 V

电源输入电压  110-220 V / 50-60 Hz

氮气/氩气流速*     0.5-1 SCFM

寿命   > 5000 hours

功耗   < 25 W

传输环境:氮气,氩气,UV级熔融石英,高真空

π2-Cygni 系统参数

π-Cygni消除了对特定光刻胶化学物质的需求

由于光具有高能量(每个光子7 .2eV),现在几乎可以将任有机聚合物用作光刻胶!π2-CYGNI的1

72nm可实现更高分辨率的成像,使用简单且廉价的光刻胶可以消除传统基于DNQ的光刻胶系统产生的碱废物。

新型,新的可能性

重新定位传统的光刻胶。 由于曝光机制的性质,不再需要光敏剂。 简而言之,π2-CYGNI分解有机聚合物链,直到它们挥发和蒸发。

此过程是通用的-几乎所有有机聚合物现在都可以用作光刻胶,即使是固体形式也是如

此。

干/正/负处理-由您决定!

由于有机膜质量减少,在曝光期间产生图像,因此消除了对单独显影步骤的需要。

由此产生的高对比度足以用于其他过程,从而减少了处理时间并减少了废物的生。为了满足更苛刻的应用,可以在曝光后对有机聚合物进行进一步处理以提高分辨率。 但是,与传统光刻胶不

同,色调(正或负)由显影液而不是敏化剂决定。 除了减少质量和蒸发外,由于链长减少,在曝光过程中聚合物中也会发生交联。

无与伦比的单曝光分辨率

较短的波长  较高的分辨率。 与I  线光刻相比,π2-

CYGNI具有将分辨率提高50%的潜力。


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