华南师范大学华南先进光电子研究院从我公司采购的172nm真空紫外光刻机正式通过验收。未在超净间环境，只在普通的实验室环境下光刻精度就能达到了1um，客户对该产品非常的满意。172nm真空紫外光刻机规格配置：设备技术参数： 输出强度：≥10mW/cm^2 透明孔径上的强度均匀性：≤3% 峰值输出波长：172nm 光发射面积：≥40mm*40mm 光刻分辨率：≤1μm 电源输入电压：110-220V/50-60Hz 传输环境：氮气，氩气，UV级熔融石英，高真空 应用领域：表面能改性、增强薄膜亲水性、低损伤原子级表面清洁、光刻蚀。